PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。

SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節點提供了優良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩定性和高性能使平臺能夠滿足無損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。

掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜清洗處理系統滿足下一代光刻節點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 193i 1x half-pitch DPT、極紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創新解決方案。以創新技術最大限度地提高光掩模性能。 MaskTrack Pro 允許用第三方的產品擴展工具集群，并提供一個全面的方法

本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。

該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于各類CMP后晶圓的清洗。

該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。