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詳細介紹
1.產品概述：
SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節點提供了優良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩定性和高性能使平臺能夠滿足無損加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工藝。
2.產品工藝：
晶圓尺寸：4、6、8英寸
小片的用工具
符合 SEMI S2、S8、S13
CE認證
符合歐洲標準和機械指令 2006/42/EC、EMC- 2004/108/EC 和低電壓指令 2006/95/EC
DIN ISO 14.644 2
SECS/GEM 200/300 mm 工廠自動化標準接口
3.產品優勢：
采用A+噴嘴在整個掩模上連續涂布介質，使顯影的沖擊力小化。
顯影劑主動脫氣，可防止微氣泡的產生，實現低的缺陷計數。
將PEB升為含APB的集群設備
高效的化學過濾（胺/酸）和精確的溫、濕度控制
含SMIF裝/卸載的全自動化
增強的工藝控制與監測功能
與曝光后烘烤系統APB9500結合，獲得佳效果
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