GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用，可用于典型0.35um、0.18um工藝節點，可支持90nm工藝節點，可兼容6寸和8寸晶圓。

12英寸槽式清洗設備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到位置，可同時傳送50片，工藝模塊用于清洗和蝕刻，藥液供給模塊用于高精度藥液配比、加熱、供給、濃度監測。

主要用于對硅材料行業中多晶硅塊進行清洗干燥處理

英思特長期致力于半導體等行業干濕制程設備、自動供/排液系統、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優化。期待與您的合作！

設備介紹:硅芯清洗機本設備為柜體式腐蝕機,整臺設備均采用進口件.基本材質:箱體材質:德國茲白色聚丙烯(PP) 門板材質:德國透明聚氯乙烯(PVC)腐蝕槽材質:德國自然色聚偏二佛乙烯(PVDF)清洗槽材質:德國自然色聚丙烯板(NPP)腐蝕槽配有美國聚四佛乙烯加熱器,虹吸上排,傳感器清洗槽配有溢流裝置和N2鼓泡裝置整機外形美觀,實用

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