KS-CM300/200 單片式化學清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可適配高溫SPM工藝，工藝覆蓋率達80%以上；搭載獨立開發的新一代高清洗效率低損傷射流噴嘴，潔凈度達到先進制程所需水平。

UV-300HC紫外線臭氧清洗設備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產。這個行業先的系統有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該系統利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（GaN、SiC、GaAs和InP）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。

UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（GaN、SiC、GaAs、InP）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。

UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（GaN、GaAs、InP、SiC）、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。

PC-300等離子清洗設備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。 該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產的各種產品的批量處理。

PC-1100是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。 該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產品的批量處理。