Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶研究環境中可能發生的任何交叉污染。 TFS 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項目環境的理想工具。

Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統，專門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直徑基板上的光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應用。

適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積 數據存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 （IBD） 系統大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產量，并滿足未來 TFMH 設備制造的需求。

Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應用。

Beneq P400A 專為以優化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環時間內保持出色的均勻性。我們的客戶將 P400A 用于光學鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ALD 的應用。

光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自 1990 年代以來，Veeco 已成功服務于光掩模市場，多年的學習造就了當今先進的系統。IBD-LDD 系統是當今 EUV 掩模坯料上的鉬 （Mo） 和硅 （Si） 多層沉積和釕 （Ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。