iTops PVD AlN 濺射系統，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。

卷對卷薄膜濺射系統裝置在真空狀態中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設備, Heating, Plasma Etching, Sputter工序可以.

卷對卷薄膜濺射系統是在真空狀態下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設備.

部件鍍膜設備是在真空狀態下在產品外部涂層非導電體的Coating設備，由真空內產品做著自傳，公轉,并能保持一定的膜厚度.

它實現高大量生產性的高真空基本Sputter - 可以生產1Batch/900EA以上的產品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質 - 證明“沉積-Sputter-沉積-Sputter”的工序連接的優秀性（Zero Defects化），因精密的機器設置及優秀的設備耐用性保持，維護周期長，價格便宜。

部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產品 Loading可以，以In-Line Sputter工程的最佳化摸品質提高- 以Both Side Sputtering 實現,量產性和品質證明(透過率25%以上)，精密儀器安裝及優秀設備耐用性保持,維修時間長,費用低廉。