部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter

薄膜沉積鍍膜系統Automotive Lamp Reflector是為了在汽車用HEAD LAMP部分提高AL的附著性,用Plasma,AL Sputter,CVD法實施SIO2 TOP Coating的設備,是縮短生產時間,前工序和*的MATCHING設備.

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統，專為入門級到中級用戶而設計。該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積，工藝室設計促進了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進一步增強了系統性能?？傮w而言，該ALD150LE™在緊湊的設計中提供了的靈活性和性能，而不會犧牲可維護性。

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統，專為高級研發 （R&D） 應用而設計。創新的ALD150LX設計功能，如我們的前驅體聚焦技術™，以及我們超高純度 （UHP） 工藝能力等進步技術，提供了靈活性和性能。

Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統MOCVD，可實現出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Veeco 提供了一系列 GaN 和 As/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統，提高吞吐量，同時降低包括顯示器、3D 傳感、LiDAR、微型 LED 顯示器和光學數據通信在內的各種應用的擁有成本。

用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統 全自動單晶圓簇系統可在 300 毫米基板上生產 5G 射頻、光子學和高級 CMOS 器件。