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半導體前道工藝設備
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Kurt J. Lesker Company自動薄膜沉積簇工具 OCTOS集群工具是經過驗證的研發和中試生產系統,用于在多個工藝室之間進行真空傳輸。®
高真空互聯物理氣相薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業優質的軟件控制系統;4英寸鍍膜區域內片內膜厚不均勻性:≤±2.5%,8英寸鍍膜區域內片內膜厚不均勻性:≤±3.5%,測定標準以Ti靶材,濺射200——500nm厚薄膜,邊緣去5mm,隨機5點取樣測定為準。
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