原子層沉積ALD

1.產品概述：

Beneq P400A 為以優化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環時間內保持出色的均勻性。我們的客戶將 P400A 用于光學鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ALD 的應用。

2.產品配置:

Beneq P400A 通常用于直徑范圍為 20 毫米至 300 毫米的基板批次。批量設置可針對特定零件、片材、晶圓或其他基板進行優化。

扁平基板的總批量大小可達 8米

設計和設置

讓我們選擇和設計佳的工具設置和原子層沉積工藝，以適應您的基材和應用。

P400A 的多功能設計使其易于在反應室和底物支架的不同設置之間切換。這意味著您可以使用相同的原子層沉積系統從研發順利過渡到批量生產。Beneq 提供量身定制的應用開發以及試生產支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之進行測試。

厚膜疊層

用于厚膜堆疊 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。 大批量的厚膜堆疊需要大量的驅體，同時會產生大量的殘留物和副產品。為了應對這些挑戰，P400A 配備了高容量驅體源以及驅體滅活和過濾系統。

Beneq P400A 是 35+ 年工業生產發展的結果，擁有大批量 >1μm 厚膜堆疊，。

3.產品優勢：

Beneq P400A 的溫度范圍從室溫到 550°C，可輕松處理氣體、液體和固體驅體，包括有毒、自燃和腐蝕性驅體材料。

維護更簡單、頻率更低。 沉積厚膜堆疊的原子層沉積工具通常需要每月清潔一次。P400A 的高容量泵管路過濾器使該工具即使在大批量生產中也能運行數月而無需維護。

由于需要冷卻 ALD 反應室，更換 ALD 反應室可能需要一整天的時間，但 P400A 將時間縮短到幾分鐘。它的設計使操作員只需拉出反應室和其他需要清潔的部件。

避免因維護而造成不必要的停機時間。Beneq P400A 使用多個反應室，這些反應室在每次運行之間連續切換。這使您可以大限度地減少與維護相關的生產停機時間。

Beneq 有的預熱器。我們可選的預熱烤箱可縮短加熱時間，進一步提高您的吞吐量。