原子層沉積ALD

1.產品概述：

Beneq P800 門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應用。

2.產品配置:

大型零件需要大型原子層沉積工具。 Beneq P800 通常用于直徑大于 600mm 的批量零件。大批量生產能力還可以降低較小零件的成本，使原子層沉積在許多應用域中具有商業可行性。根據每個客戶的基材和應用選擇和設計佳的工具設置和 ALD 工藝。P800 的設計使得在反應室和底物支架的不同設置之間切換變得容易。這種內置的多功能性意味著您可以使用相同的原子層沉積系統從研發順利過渡到批量生產。Beneq 提供量身定制的應用開發以及試生產支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之進行測試。

用于厚膜堆疊 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。大批量的厚膜堆疊需要大量的驅體，并產生大量的殘留物和副產物。我們設計的 P800 配備了高容量驅體源以及驅體滅活和過濾系統，以應對這些挑戰。Beneq P800 是 35+ 年工業生產發展的結果，具有大批量 >1μm 厚膜堆棧。

3.產品優勢：

維護更簡單、頻率更低。 沉積厚膜堆疊的原子層沉積工具通常需要每月清潔一次。P800 的高容量泵管路過濾器使該工具即使在大批量生產中也能運行數月而無需維護。此外，更換 ALD 反應室通常需要一整天的時間，因為您需要先讓它們冷卻下來。P800 設計允許用戶簡單地拉出反應室和其他需要清潔的部件，從而將時間縮短到幾分鐘。

避免因維護而造成不必要的停機時間。 Beneq P800 使用多個反應室，這些反應室在每次運行之間不斷更換，因此您可以大限度地減少與維護相關的生產停機時間。

Beneq 有的預熱器。 我們可選的預熱烤箱縮短了加熱時間，并進一步提高了您的吞吐量。