laurell的H6-23型的勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統 將 可容納最大 150mm 晶圓和 5 英寸 × 5 英寸 （127mm×127mm）基板， 最大轉速為 12,000 RPM （基于ø00mm硅片）。

H6-8型勻膠機機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英寸 × 7 英寸 （178mm×178mm）基板， 最大轉速為 12,000 RPM （基于100mm硅片）。

用于 5G、光子學和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統 全自動單晶圓簇系統可在 300 毫米基板上生產 5G 射頻、光子學和高級 CMOS 器件。

Propel HVM GaN MOCVD 系統，用于電源、5G 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件

用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。

適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統