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            金屬有機化學氣相沉積

            簡要描述:Propel HVM GaN MOCVD 系統,用于電源、5G 射頻和光子學,單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件

            • 產品型號:Propel HVM GaN
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-05
            • 訪  問  量: 348

            詳細介紹

            1.產品概述:

            Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統被設計為一種大批量制造單晶圓反應器簇系統,適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產生高質量外延膜性能,以實現均勻性、可重復性和良率。PropelHVM系統可配置多達6個模塊化集群室,以實現最大的生產力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業務的理想選擇。

            2.產品優勢

            單晶圓反應器基于VeecoTurboDisc®設計,采用突破性技術,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應器Propel和K465i™系統轉移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現快速開發到生產周期.

            Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統被設計為一種大批量制造單晶圓反應器簇系統,適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產生高質量外延膜性能,以實現均勻性、可重復性和良率。PropelHVM系統可配置多達6個模塊化集群室,以實現大的生產力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業務的理想選擇。

            單晶圓反應器基于VeecoTurboDisc®設計,采用突破性技術,包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從Veeco的單晶圓反應器Propel和K465i™系統轉移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現快速開發到生產周期。



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