詳細介紹 CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產生化學反應，生成可揮發產物后，隨真空抽氣系統排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價比和空間利用率上優點突出，可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

詳細介紹 ICP是一種加工微納結構的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優點。目前被廣泛應用于Si、SiO2、SiNx、金屬、III-V族化合物等材料的刻蝕?？蓱糜诖笠幠＜呻娐贰EMS、光波導、光電子器件等領域中各種微結構的制作。

市場和應用 用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。 各種類型鋰離子和固態電池的陰極和陽極的鈍化 用于柔性太陽能電池的導電層和封裝 用于柔性電子產品的防潮層

超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜 Beneq C2R 是我們集群兼容設備系列的空間 ALD 成員。 Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。

TFS 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項目環境的理想工具。

Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶研究環境中可能發生的任何交叉污染。大量的可用選項和升級意味著您的 Beneq TFS 200 將與您一起擴展，以滿足研究要求。