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            當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  3 CVD  >  Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備

            8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備

            簡要描述:詳細介紹
            ICP是一種加工微納結構的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優點。目前被廣泛應用于Si、SiO2、SiNx、金屬、III-V族化合物等材料的刻蝕??蓱糜诖笠幠<呻娐贰EMS、光波導、光電子器件等領域中各種微結構的制作。

            • 產品型號:Pishow® A 系列
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-04
            • 訪  問  量: 379

            詳細介紹

            Pishow® A 系列

            8英寸電感耦合等離子體刻蝕(ICP)設備 

            1. 詳細介紹

            ICP是一種加工微納結構的等離子刻蝕技術。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優點。目被廣泛應用于Si、SiO2、SiNx、金屬、III-V族化合物等材料的刻蝕??蓱糜诖笠幠<呻娐?、MEMS、光波導、光電子器件等域中各種微結構的制作。

            2. 系統特性

            擁有多種材料刻蝕解決方案,包括硅基材料、金屬、III-V和其他化合物半導體

            可提供高低溫(-10℃至+150℃)工藝模式

            可提供ALE解決方案,實現對刻蝕速率和均勻性的高精度控制

            具備Bosch工藝能力,可提供高深寬比硅深槽或深孔刻蝕解決方案

            適用于8英寸晶圓,并可向下兼容,提供單腔式和多腔式等多種腔室搭配方式        



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