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詳細介紹
1. 系統特性
Kessel® Pishow® M 金屬刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備
設備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）、去膠腔（stripchamber）、冷卻腔（cooling chamber）、傳輸模塊（transfer module）構成適用于0.11微米及其它技術代的鋁墊刻蝕及鎢回刻（W Recess）工藝也可換用6英寸ESC。
2. 工藝數據
鋁墊刻蝕
鋁線工藝
鎢塞刻蝕
3. 詳細介紹
Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺，基于自有開發的優化設計，保證了優異的刻蝕均勻性（片內<8%，片間<5%）和顆粒控制。在4微米厚鋁刻蝕工藝中，可以提供8000片/月的產能。
該設備高性價比的解決方案和優秀的空間利用率，可為客戶產能升提供幫助。
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