PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快速晶圓裝卸，是研究、原型設計和小批量生產的理想選擇。 它通過優化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來實現高性能工藝。

PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強化學氣相沉積 （PECVD） 工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開放式裝載系統?？蓪崿F大型晶圓大規模的批量生產和 300mm 晶圓處理。

設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產均勻性好且沉積速率高的薄膜。 PlasmaPro 100 PECVD 由于電極溫度均勻性和電極中的噴淋頭設計，可提供出色的保形沉積和低顆粒生成，允許射頻能量產生等離子體。等離子體的高能反應性物質提供高沉積速率，以達到所需的基板厚度，同時保持低壓。其雙頻 13.56MHz 和 100KHz 功率應

AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產需求和/或應用最終目標將告知如何裝備您的 Nexdep PVD 平臺。

該ICPCVD工藝模塊設計用于在低生長溫度下生產高質量的薄膜，通過高密度遠程等離子體實現，從而實現優秀的薄膜質量，同時減少基板損傷。

憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。 PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統為得到更為精細的刻蝕效果提供了智能解決方案，使您在行業中能保持競爭優勢。