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            單晶圓刻蝕系統

            簡要描述:憑借在蝕刻GaN,SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗,我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。
            PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統為得到更為精細的刻蝕效果提供了智能解決方案,使您在行業中能保持競爭優勢。

            • 產品型號:PlasmaPro 100 Polaris
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-05
            • 訪  問  量: 247

            詳細介紹

                1. 產品概述

            憑借在蝕刻GaN,SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗,我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統為得到更為精細的刻蝕效果提供了智能解決方案,使您在行業中能保持競爭優勢。

            2. 特色參數

            高效的刻蝕速率

            低購置成本

            為腐蝕性的化學成分而設計

            出色的刻蝕均勻性

            適用于藍寶石的靜電壓盤技術

            藍寶石和硅上的GaN

            高導通抽氣系統

            可與其它PlasmaPro系統集成

            主動冷卻電 - 在刻蝕過程中保持樣品溫度。

            高功率ICP源 - 產生高密度等離子體。

            可靠的硬件且易于維護 - 可保持長時間正常運轉。

            磁場墊環 - 增強離子的控制和均勻性。

            靜電壓盤技術 - 適用于藍寶石,以及藍寶石和硅基的GaN。

            加熱的腔室內襯 - 優化以減少腔壁沉積。

            先進的自動匹配單元(AMU) - 提供快速,高效和準確的匹配,確保了工藝的高度精準重復性


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