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VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐 適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備
更新時間：2024-08-14
型號：VERIC A6151A
廠商性質：經銷商
瀏覽量：550
VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔凈。
更新時間：2024-09-05型號：VERIC A6151A廠商性質：經銷商瀏覽量：544
HORIC D200系列 擴散/氧化系統，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺,安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。
更新時間：2024-09-05型號：HORIC D200系列廠商性質：經銷商瀏覽量：410
AGF系列 電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
更新時間：2024-09-05型號：AGF系列廠商性質：經銷商瀏覽量：397
APS系列 感應式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
更新時間：2024-09-05型號：APS系列廠商性質：經銷商瀏覽量：354
Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統，加熱分區設計，具備良好的溫度均勻性。
更新時間：2024-09-05型號：Pallas A220廠商性質：經銷商瀏覽量：379
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