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            碳化硅高溫氧化爐
            
            
            簡要描述：VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔凈。
            
            
              
    
            • 產品型號：VERIC A6151A
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            • 廠商性質：經銷商
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            • 更新時間：2024-09-05
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            • 訪  問  量： 546
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            詳細介紹
            
            
            
            	
            1. 產品概述
            VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備。
            2. 設備用途/原理
            VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備，高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min。石墨電阻加熱，工藝腔室潔凈。自動裝片，Cassette to Cassette。SEMI S2/S6 認證。
            3. 設備特點
            晶圓尺寸 4/6 英寸兼容，適用材料 碳化硅、氮化鋁，適用工藝 注入后激活、Ar 退火、Ar/H2 退火、溝槽平滑，適用域 科研、化合物半導體。百科：退火爐的原理?主要涉及通過控制加熱和冷卻過程中的溫度和時間，以改變半導體材料的性質或結構，從而實現對材料的精確控制和優化處理。這種設備通常被稱為RTP（Rapid Thermal Processing）快速退火爐。RTP退火爐的關鍵特點包括快速升溫、保持溫度、冷卻階段以及氣體控制。
            
            
            
            
            
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