HORIC D200系列 擴散/氧化系統，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺,安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。

AGF系列 電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。

APS系列 感應式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。

Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統，加熱分區設計，具備良好的溫度均勻性。

Sitara TA230A 12英寸單片快速熱退火系統，適用于 260-1200℃快速熱處理工藝。

CIF透射電鏡樣品桿存儲儀采用無油隔膜泵，通過抽真空產生100 Pa恒定潔凈無污染的真空環境，特別適用于TEM透射電鏡樣品桿的日常真空儲存或水汽去除，簡單方便實用。