WE3102系列 12英寸槽式清洗設備,可配備 i-Clean 多藥液工藝槽,支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設備。
THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐,優良的壓力控制系統,高精度溫度場控制技術。
FLOURIS 201系列 8英寸立式爐,高精度溫度場控制技術,可實現 1200℃ 內氧化退火工藝。
VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐 適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備
VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐,適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃,升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱,工藝腔室潔凈。