Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。

電子束蒸發鍍膜設備CMS系列極其強大的優良研究工具 設計用于適應特定的薄膜應用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏 系統設計可以配置為真正的超高真空性能 經過現場測試和驗證的設計

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設備專為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設計、具有高級編程、負載鎖定功能的行業*軟件控制系統以及用于優化薄膜性能的眾多功能是這種創新設計提供的一些優勢。®

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統，可實現 8 英寸晶圓轉移、多達 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺的下一代薄膜沉積系統。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設備，是一款久經考驗、堅固耐用且用途廣泛的設計。PRO Line PVD 75 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、自動

Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統為各種薄膜沉積應用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝能力、均勻性和多種沉積模式