多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統，可實現 8 英寸晶圓轉移、多達 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。PVD 系列在全球擁有 500 多臺設備，是一種成熟、堅固且多功能的設計，由 PVD 75 和 200 平臺組成。PRO Line PVD 200 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、自動基板加載以及用于優化薄膜性能的眾多功能是這種創新的設計提供的一些關鍵優勢。®

PRO Line PVD 200 與以下技術兼容：

• 熱蒸發（最多六艘 4 英寸的獨立船）

• TORUS 磁控濺射源（最多 8 個 2“ 或 3" 源）®

• 電子束蒸發源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）

• LTE10 有機沉積源（最多兩個）

• 上述技術的組合也可用。

• 可根據要求提供定制配置

KJLC的軟件允許用戶友好的配方創建，以及一個可靠、不間斷的處理模塊，無論計算機用戶界面的狀態如何，都可以完成過程。有關此直觀、可靠的軟件包的更多信息，請參閱“軟件"選項卡。

PRO Line PVD 200 在其工藝室中提供四種類型的高真空泵，一個 Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵（標準），以及可選的 1250L/s Pfeiffer 渦輪分子泵、Brooks CTI-8F 1500 L/s 或 3000 L/s 低溫泵。普發渦輪分子泵是實現整體成本效益高質量泵送的不錯選擇，尤其適用于濺射應用。Brook CTI 低溫泵可用于需要盡可能低的真空度的應用，特別是熱蒸發和電子束應用。

右圖顯示了配備的 PRO Line PVD 200 工藝室按泵類型劃分的平均預期泵送性能，該工藝室清潔干燥，安裝了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工管線。