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            當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  2 PVD  >  PRO Line PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺

            多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺

            簡要描述:Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺的下一代薄膜沉積系統。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設備,是一款久經考驗、堅固耐用且用途廣泛的設計。PRO Line PVD 75 建立在原始設計的成功基礎上,改進了系統基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、自動

            • 產品型號:PRO Line PVD 75
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-08-14
            • 訪  問  量: 936

            詳細介紹

            PRO Line PVD 75
            多功能濺射、電子束和熱蒸發沉積平臺

            Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平臺的下一代薄膜沉積系統。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設備,是一款久經考驗、堅固耐用且用途廣泛的設計。PRO Line PVD 75 建立在原始設計的成功基礎上,改進了系統基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、自動基板加載以及用于優化薄膜性能的眾多功能是這種創新的設計提供的一些關鍵優勢。®

            規格

            箱形304L不銹鋼腔體

            內部尺寸:
            15.25“ 寬 x 16.50" 深 x 24“ 高
            (387.4mm x 419.1mm x 609.6mm)

            鋁,O 形圈密封,鉸鏈,前檢修門


            沉積技術

            熱蒸發

            最多四艘 4 英寸的單艘船,或六艘 2 英寸的船組件


            TORUS 磁控濺射源

            多達 6 個 2 英寸或 3 英寸光源

            多達 4 個 4 英寸信號源


            電子束蒸發源

            4 口袋 8cc

            8 口袋 12cc

            6 口袋 20cc


            LTE10 有機沉積源

            最多兩個 10cc 源


            沉積方向

            熱蒸發

            向上


            TORUS 磁控濺射源

            向上、向下或側濺射


            電子束蒸發

            向上


            LTE有機沉積

            向上


            底物操作

            旋轉、加熱、冷卻、偏置、負載鎖定兼容


            電源

            DC、PDC、RF、MF 和 HIPIMS 電源


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