KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{寶石、砷化鎵和碳化硅等材質的晶圓，產品涉及多個應用領域，涂膠機產能大于190片/小時。設備通過了CSA認證。

KS-FT200/300系列堆疊式高產能前道涂膠顯影機，為我司自主研發的突破晶圓前道28nm工藝節點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC，SOC，SOD，SOG等多種材料涂覆顯影工藝的機臺。支持與光刻機聯機作業。該系列機臺通過各種行業認證，占地面積小、可靠性高、易于維護，滿足各種功能芯片制程需求。

市場和應用 用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。 各種類型鋰離子和固態電池的陰極和陽極的鈍化 用于柔性太陽能電池的導電層和封裝 用于柔性電子產品的防潮層

超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜 Beneq C2R 是我們集群兼容設備系列的空間 ALD 成員。 Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。

TFS 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項目環境的理想工具。

Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶研究環境中可能發生的任何交叉污染。大量的可用選項和升級意味著您的 Beneq TFS 200 將與您一起擴展，以滿足研究要求。