Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。

用于高級研究的先進能力 Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統供應商，為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統，這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。

Phoenix®系統經過精心設計，可在從中試生產到工業級制造的任何制造環境中實現高吞吐量和最長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現可重復、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的前驅體生產線，可根據您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學成分。緊湊的占地面積和創新的設計使Phoenix®成為具有批量生產ALD要求的人們的實用選擇。

產品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等組成。 設備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發展起來的一項技術，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優點和潛力逐漸被人們認識和重視。該項技術在生成復雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結果。

產品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。 設備用途： 用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。

產品概述： 高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用可行軟件控制系統。 設備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。