原子層沉積ALD

1. 產品概述

Savannah®配備了高速氣動脈沖閥，以實現我們的曝光模式™，用于在超高寬寬比基板上沉積薄膜。這種經過驗證的精密薄膜鍍膜方法可用于在縱橫比大于 2000：1 >基板上沉積保形、均勻的薄膜。Savannah® 提供三種配置：S100、S200 和 S300。Savannah® 能夠容納不同尺寸的基材（S300 可達 300 毫米）。Savannah®薄膜沉積系統配備了加熱的驅體線，并可選擇添加多達六條線。Savannah® 能夠處理氣體、液體或固體體。

Veeco 原子層沉積 （ALD） 系統供應商，為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統，這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的長。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。Savannah® 已成為全球從事原子層沉積 （ALD） 的大學研究人員的選系統，他們正在尋找經濟實惠且強大的平臺。在過去十年中，我們已經交付了數百個這樣的系統。Savannah®對驅體的高效利用和節能特性大大降低了薄膜沉積系統的運行成本。

2. 主要功能包括

原位橢圓偏振儀

原位質量控制

自組裝單層膜

2循環時間

綜合臭氧

低蒸氣壓沉積

批處理

手套箱集成