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詳細介紹
1.產品概述：
系統主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
2.設備用途：
脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發展起來的一項技術，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優點和潛力逐漸被人們認識和重視。該項技術在生成復雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結果。與常規的沉積技術相比，脈沖激光沉積的過程被認為是“化學計量"的過程，因為它是將靶的成分轉換成沉積薄膜，非常適合于沉積氧化物之類的復雜結構材料。當脈沖激光制備技術在難熔材料及多組分材料(如化合物半導體、電子陶瓷、超導材料)的精密薄膜，顯示出了誘人的應用景。
3.真空室結構:
球形開門
真空室尺寸:φ450mm
限真空度:≤6.67E-6Pa
沉積源:φ2英寸靶材，4個
樣品尺寸，溫度:φ2英寸，1片，高800℃
占地面積（長x寬x高）:約1.8米x0.97米x1.9米
電控描述:全自動
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