CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻性要求高的實驗室。

CIF勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。

CIF等離子去膠機 采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學設計，結構緊湊，漂亮大氣，優化的腔體結構及合理的結構設計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護。

CIF 生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應用，設備可在嚴苛環境下穩定運行，產品性能穩定，樣品處理重復性、一致性好。

1.是高潔凈度的沖洗旋干設備。主要系應用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設備具有單工作室、雙工作室兩種結構。 2.產品類型：有立式單腔，雙腔晶圓甩干機(2-12寸)，水平多工位甩干機(2-12寸) 3.單次甩干數量1-25塊 4.作業程序：沖洗、烘干的步驟順序、時間、 轉速等可分段編輯，（可設 recipe 為 10 個）