在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經過優化后的晶圓上方噴嘴移動路徑可以實現在襯底上均勻的涂層。 噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細小的液滴

槽式濕法刻蝕清洗設備 應用領域：RCA清洗，濕法去膠，介質層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗等

充氮型程控烤膠機 產品性能： 1.充氮烤膠機是在普通基礎上增加密封蓋和氮氣注入口，保證氮氣均勻通入烤膠機內部形成惰性氣體保護氣氛。 2.充氮烤膠機最高溫度可達到300℃，可實現控溫在±0.2℃以內，溫度分辨率在0.1℃，表面溫度均勻性小于1%的精確控溫

實驗型勻膠機 技術參數： 1.適用基片尺寸：小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓，非標準基片可定制載物盤 2.自動滴膠功能 3.支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗、控溫等功能模塊個性化定制 4.轉速范圍：20-10000rpm 5.轉速分辨率：±1rpm 6.加速度可調范圍：20-50000rpm/s 7.單步時長：3000s 8.時間分辨率：0.1s