Laurell的EDC-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板。雖然這個系統有12,000RPM的能力帶真空壓緊裝置，建議僅用于3,000RPM和非真空吸盤。

Laurell的EDC-650-8B勻膠機結構緊湊，具有優良的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大200mm晶圓和7英寸×7英寸（178mm×178mm）基板。雖然這個系統有12,000RPM的能力帶真空壓緊裝置，建議僅用于3,000RPM和非真空吸盤。

Laurell的EDC-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板。雖然這個系統有12,000RPM的能力帶真空壓緊裝置，建議僅用于3,000RPM和非真空吸盤。

Laurell的WS-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板，最大轉速為12,000RPM（基于100mm硅片）。

產品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等組成。 設備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發展起來的一項技術，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優點和潛力逐漸被人們認識和重視。該項技術在生成復雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結果。

產品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。 設備用途： 用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。