離子束沉積產品是因為它們能夠生產具有高質量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設備上實現， 因而提高系統的利用率。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統規格與實際應用緊密協調，以確保獲得速率更快且重復性更好的工藝結果。

用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射 （IBD） 光學鍍膜系統，實現更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學鍍膜系統具有多種夾具、目標組件的光學監控系統選項，可滿足幾乎所有光學薄膜制造應用的產量和器件性能要求。 SPECTOR 雙離子束濺射系統

濺射鍍膜設備SMD系列（立式） SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各樣的生產環境下運轉。及時反映從生產現場聽取的意見，進一步提高設備的可靠性。

Load-lock式濺射設備是可對應從研究開發到小規模量產的濺射設備。這種設備通過在真空濺射室之前增加一個預真空鎖室（Load-lock chamber），實現了基片在預真空環境下進行快速裝卸，同時保持了濺射室的高真空狀態。

批次式濺射設備SV系列 SV系列為縱型batch式濺射設備。為可以處理大量基板的回轉型設備。

卷繞式真空蒸鍍設備 EW系列 塑料薄膜、紙、金屬箔等連續卷繞的同時，對金屬和氧化物進行蒸鍍的成膜設備。從小型的實驗機到大量的生產設備，此外，還提供一系列用于包裝材料，電容器，磁帶等其他應用的型號。