批次式濺射設備

1 產品概述:

   批次式濺射設備通常具有較大的處理腔室，能夠同時處理多個基片或大面積基片。設備內部配備有精密的靶材安裝系統、基片旋轉裝置、真空系統以及控制系統等關鍵部件。在工作時，設備首先通過真空系統抽除腔室內的空氣，達到所需的真空度，然后通入工作氣體（如氬氣）并施加電壓，使氣體電離產生高能粒子。這些高能粒子轟擊靶材表面，將靶材原子或分子濺射出來，并沉積在旋轉的基片表面，形成均勻的薄膜。

2 設備用途：

批次式濺射設備在多個領域具有廣泛的應用，主要包括：

1. 光學領域：用于制備光學鏡片、濾光片、反射鏡等光學元件的鍍膜，以改善其透光性、反射率等光學性能。

2. 電子領域：在半導體器件、集成電路、平板顯示器等電子產品的制造過程中，用于制備導電膜、絕緣膜、擴散阻擋層等功能性薄膜。

3. 汽車工業：在汽車零部件（如車燈、車窗、車身裝飾件等）的制造中，用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蝕性等性能，同時提高美觀度。

3 設備特點

批次式濺射設備具有以下顯著特點：

1. 高效性：能夠同時處理多個基片或大面積基片，顯著提高生產效率。

2. 均勻性：通過基片旋轉裝置和精密的靶材安裝系統，確保薄膜在基片表面的均勻分布。

3. 靈活性：可更換不同材質的靶材，以制備不同種類的薄膜，滿足不同工藝需求。

4. 可控性：配備有先進的控制系統，可精確控制濺射過程中的各項參數（如電壓、電流、氣體流量等），以獲得所需的薄膜性能。

4 技術參數和特點：

批次式濺射設備SV系列

SV系列為縱型batch式濺射設備。為可以處理大量基板的回轉型設備。

SV-4540、6040、9045為回轉型設備基板裝載量大、適用于小~中規模的生產或少量多品種的生產

各種基板上的電膜成膜、絕緣膜、電介質膜成膜