MBE分子束外延系統

1. 產品概述：

GENxplor® R&D MBE系統獲得了化合物半導體制造的CSindustry獎，采用Veeco成熟的3英寸生長室設計，并具有工藝靈活性，非常適合UV LED、高效太陽能電池和高溫超導體等新興技術的材料研究。其高效的單框架設計將所有真空硬件與機載電子設備相結合，使其比其他 MBE 系統小 40%，從而節省寶貴的實驗室空間。由于手動系統集成在一個框架上，因此減少了安裝時間。GENxplor的開放式架構設計還提高了易用性，提供了對積液池的便捷訪問，并且與其他MBE系統相比，更容易進行維護。

直徑達 3 英寸的襯底上的高質量外延層

電子束溫度加熱器（>1850°C）

單幀架構提高了易用性，提供了便捷的源訪問和增強的可服務性

高效的一體化設計將手動系統與機載電子設備相結合，與其他 MBE 系統相比，可節省 40% 的實驗室空間

非常適合對各種材料進行前沿研究，包括砷化鎵、氮化物和氧化物

Molly® 軟件集成了簡單的配方編寫、自動生長控制和始終在線的數據記錄

可選的 Nova™ 超高溫基板加熱器，可在 1850° 下提供經過驗證的性能

可直接擴展到 GEN20™、GEN200® 和 GEN2000® MBE 系統