BIO系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機，無掩膜光刻機具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現，可確保芯片的質量和性能。這使得它成為生命科學研究和相關應用中的重要工具。BIO 系列的出現為生命科學領域帶來了新的機遇。

Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點使其特別適合小批量生產的場景。在該場景中，它能夠發揮出其高效的優勢，為生產帶來更高的效率和更好的質量。Speed 系列為相關產業提供了更優質的選擇，滿足了市場對于高效率、高質量生產的需求

ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩定，上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持，助力科學研究領域的發展和創新。

ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯網 （IoT） 和 MEMS。 ULTRA 是一種經濟型光刻機解決方案，具有高吞吐量、精度和結構均勻性以及極其精確的對準所需的所有特性和功能。標準配置包括全自動掩模處理、Zerodur® 平臺、低失真光學元件和高精度位置控制等功能。

PG 300 DI 是一款體積圖案發生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統組件，能夠以最高的精度和準確度進行書寫。最大寫入區域覆蓋 300 mm 晶圓。 VPG 300 DI 系統的目標用途主要是學術和工業研究與開發，這些領域需要高靈活性和小于 2 μm 的特性。該系統可滿足各種應用的需求，包括產品原型制作、MEMS、與其他工具的

VPG 200 / VPG 400 體積圖形發生器是光刻系統，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 410 x 410 mm++2.應用包括 MEMS 掩模制造、先進封裝、3D 集成、LED 和 OLED 掩模以及微流體。 VPG 具有經過現場驗證的超高速曝光引擎和高功率 DPSS 激光器。其技術將高分辨率、準確性和出色的圖像質量與高吞吐