激光掩模光刻機

簡要描述：ULTRA激光掩模光刻機是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯網（IoT）和 MEMS。

ULTRA 是一種經濟型光刻機解決方案，具有高吞吐量、精度和結構均勻性以及極其精確的對準所需的所有特性和功能。標準配置包括全自動掩模處理、Zerodur® 平臺、低失真光學元件和高精度位置控制等功能。

產品型號：ULTRA
廠商性質：經銷商
更新時間：2024-09-04
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產品概述：

ULTRA半導體光掩模光刻機是門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯網（IoT）和 MEMS。

操作
用戶界面（軟件）	半兼容 GUI
大寫入區域	228 x 228 mm2 （可根據要求提供其他尺寸）
基板尺寸	4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根據要求提供更大的和其他基材）

系統特點
光學	0.9 NA物鏡低失真紫外光學元件自動校準程序
激光	355nm波長的高功率二管泵浦固體激光器
對焦系統	實時光學自動對焦
對準	攝像系統失真補償全局和逐場對準邊緣檢測器
數據路徑	實時壓縮可擴展的硬件概念輸入格式：所有標準格式，例如 GDSII 和 Jobdeck
空間光調制器	頻率 350 kHz 數據速率 2.4 GB/s
自動化	全自動口罩處理，帶兩個大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協議

系統尺寸	系統 / 電子機架
寬度 [mm]	2995 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3400 / 180

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相
壓縮空氣	7 - 10 bar （不含油或其他殘留物）