高真空電子束蒸發薄膜沉積系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成，體現立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環境，其余部分（含低溫泵抽系統）處在相對要求較低超凈環境。 本系統配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬

高真空電子束蒸發薄膜沉積系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成，體現立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環境，其余部分（含低溫泵抽系統）處在相對要求較低超凈環境。

產品概述： 高真空電子束及熱阻蒸發薄膜沉積系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱阻蒸發組件、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機臺及電控系統等部分組成，自動控制軟件系統。 設備用途： 電子束蒸發可以蒸發高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、 束流密度大、蒸發速度快，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

高真空熱阻蒸發薄膜沉積系統主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成。該系統可與手套箱對接。熱蒸發是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程?？稍诟哒婵障抡舭l高質量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等領域。

產品概述： 高真空有機及熱阻蒸發薄膜沉積系統主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成。 設備用途： 熱蒸發是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發高質量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等領域。

產品概述： 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、立式旋轉靶臺、基片加熱臺、抽氣系統、真空測量、工作氣路、電控系統、計算機控制等各部分組成。 設備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發展起來的一項技術，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優點和潛力逐漸被人們認識和重視。