光刻膠

RZJ-304 光刻膠是由蘇州瑞紅生產的正性光刻膠，以下是其詳細介紹：
成分
主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛樹脂（CAS-NO.9016-83-5，濃度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氫 - 5 - 氧代 - 1 - 萘磺酸與 2,3,4 - 三羥基二苯甲酮的酯化物（CAS-NO.68510-93-0，濃度 6%）等成分組成.
性能特點
光刻精度較高：能夠實現較為精細的光刻圖案，線條寬度和間距可以達到較小的尺寸，適用于對光刻精度要求較高的微納加工工藝，如集成電路制造、微機電系統（MEMS）加工等領域.
分辨率良好：具備較好的分辨率，能夠清晰地將掩模版上的圖形轉移到基底上，對于復雜的圖形結構也能夠較好地呈現，有助于制造出具有高精度和高性能的微納器件.
工藝適應性強：可以適應多種光刻工藝條件，如不同的曝光能量、顯影時間等。在一定的工藝參數范圍內，都能夠獲得穩定可靠的光刻效果，這使得它在不同的生產環境和工藝要求下都具有較好的應用靈活性.
與基底結合力較好：與常見的半導體基底材料，如硅片等，具有良好的粘附性，能夠牢固地附著在基底表面，在光刻過程中不易出現光刻膠脫落或剝離的現象，從而保證了光刻圖案的完整性和準確性。
技術參數
粘度：有 25mpa?s 和 50mpa?s 兩種規格可選.
配用顯影液：RZX-3038.
推薦工藝條件
涂布：溫度 23℃，采用旋轉涂布的方式，可獲得 1.0～3.5μm 的膜厚。
前烘：在熱板上 100℃條件下烘烤 90 秒。
曝光：曝光能量為 50～75mj/cm2。
顯影：在 23℃下，使用 RZX-3038 顯影液，顯影時間 1 分鐘，可采用噴淋或浸漬的方式。
清洗：用去離子水清洗 30 秒。
后烘：在熱板上 120℃條件下烘烤 120 秒 。