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            區熔晶體生長系統

            簡要描述:FZ-14M(G)區熔晶體生長系統為制備單晶硅晶體樣品而設計開發,該系統用于工業多晶硅生產中的材料分析。生產過程中的小型多晶體樣品在氬氣環境中被感應熔化,并在籽晶上結晶,形成單晶,然后進行光譜分析,以檢測和記錄所生產的多晶硅質量。該系統采用無接觸熔化工藝,通過使用渦輪分子泵和超純氬氣作為工藝氣體,產生高極限真空環境,有效地防止了工藝過程中的污染。

            • 產品型號:FZ-14M(G)
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-05
            • 訪  問  量: 308

            詳細介紹

            FZ-14M(G) 區熔晶體生長系統可在線圈下放置顆粒硅料,使用籽晶將熔融的顆粒硅拉出用于材料分析的小單晶棒, 在拉制過程中顆粒硅容器和籽晶旋轉方向相反。此外,上主軸可以在XY方向移動。

            產品數據概覽:

            材料:硅

            晶體

            晶體拉動長度 350 mm

            晶體直徑: 最長可達 25 mm

            最后真空度: 2.5 x 10-5 mbar

            最大過壓: 2 bar(g)

            發電機

            輸出電壓: 15 kW

            頻率: 2.4 MHz (FZ-14M)

            上軸

            進料速度: 最高 30 mm/min

            上部旋轉: 最高 30 rpm

            下軸

            拉動速度: 最高 30 mm/min

            下部旋轉: 最高 30 rpm

            尺寸規格

            高度: 3,000 mm

            寬度: 1,020 mm

            深度 1,640 mm

            面積(總): 1,800 mm x 4,000 mm

            重量(總): 2,500 kg

            區熔(FZ)技術作為提純方法為生產高電阻率的超純硅單晶提供了技術可行性,該技術可應用于高性能電子和半導體技術領域。其另一優點是可以從氣相中連續摻入,這使得在整個晶體的電阻率沿長度方向保持一致。因此,幾乎可以在整個晶體上均勻地實現所需的電性能。由于電荷載流子的高壽命和極低的氧含量(無坩堝工藝),FZ晶體同樣也適用于光伏行業。

            區熔(FZ)技術作為提純方法與CZ直拉工藝等競爭方法相比,FZ工藝的優勢在于只有緊鄰感應線圈的一小部分晶體需要被熔化,無需使用石英坩堝(每爐次耗用一個),可實現高拉速,因此降低了耗材成本的同時也降低了能源成本。此外,無論是從硅還是其他合適的材料中提取的晶體,可以通過多次處理,顯著地提高純度。


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