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            CMP后清洗機

            簡要描述:GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(8“~12")晶圓。

            • 產品型號:GNP CLEANER-812L
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-05
            • 訪  問  量: 374

            詳細介紹

            1. 產品概述

            適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")

            配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋轉漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

            電刷尺寸:70(外徑)32(內徑)320()毫米

            預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

            輥刷工位

            化學:nh4oh<1%)或DIW

            刷型:雙面PVA

            轉速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm

            化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

            可用化學:2化學[NH4OH]            

            化學品流量:滿量程< 1L/min

            DI流量:滿量程<5L/min

            轉站

            旋轉速度:2500/DIW沖洗/ N2

            控制工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

            程序控制:PC & PC觸摸監控,程序可編程,計算機網絡可比


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