開蓋等離子體沉積系統PECVD

1. 產品概述

SENTECH Depolab 200 是基本的等離子體增強化學氣相沉積 （PECVD） 系統，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。結合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計的優點和靈活的直接加載設計。從 2 英寸至 200 毫米晶圓和樣品片的標準應用開始。

2. 成本效益

該系統將平行板等離子體源設計與直接負載相結合。

3. 可升級性

根據其模塊化設計，SENTECH Depolab 200 可升級為更大的泵送裝置、用于應力控制的低頻電源和額外的燃氣管線。

4. 操作軟件

用戶友好的強大軟件包含在 GUI、參數窗口、配方編輯器、數據記錄和用戶管理中。

5. 靈活性和模塊化

SENTECH Depolab 200 PECVD 系統配置為在高達 400 °C 的溫度范圍內沉積 SiO2、SiNx、SiONx 和 a-Si 薄膜。 該系統特別適用于用于蝕刻掩模、膜、電隔離膜等的介電膜沉積。

SENTECH Depolab 200 由先進的硬件和 SIA 操作軟件控制，具有客戶端-服務器架構。一個經過充分驗證的可靠可編程邏輯控制器（PLC）用于所有組件的實時控制。