有掩膜光刻機

大光刻面積VPG+：技術的領航
大光刻面積的VPG  +維持原VPG系列為根基再進化，使其更加出色。VPG于2007年推出;  是擁有專量產型曝光技術光刻系統，可靠和經濟的解決方案，適用于要求嚴謹的掩膜板制造。

速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發的高速光學調制器，在速度下，曝光時間可以達到原始VPG的三倍！強化了曝光動能與數據傳輸路徑。

功能和選項：配備性能
VPG  +可配置各種平臺尺寸，最大可達1400mmx1400mm。  該系統具有355nm波長的紫外激光源，空氣軸承平臺，半自動或全自動入料器，用于基板裝載的溫控環境室。

應用：光罩制造和直接寫入
大光刻面積的VPG  +系統適用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light  emitting diodes, touch panel以及life  science應用。出色的圖像質量和對位功能，也非常適合在大面積執行多層套刻直寫。

VPG+  最大型的設備VPG+  1400專門針對顯示器相關行業應用：是所有VPG+系列中功能具有極其完善的溫控環境室，差分干涉儀和先進的mura校正以及面板間距優化功能。