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詳細介紹
1. 產品概述
WE2102系列 8英寸槽式清洗設備，該平臺工藝區為 12 吋優良槽式清洗設備的拓展，具備優異的工藝效果。
2. 設備用途/原理
該平臺工藝區為 12 吋優良槽式清洗設備的拓展，具備優異的工藝效果。精準控制藥液混合比例。多樣的藥液比例擴展應用。精準的蝕刻速率控制。優秀的干燥效果。軟件量身定制，具備快速更新能力。
3. 設備特點
晶圓尺寸 8 英寸，適用材料 光阻、單晶硅、氧化硅、氮化硅、介質膜、金屬膜、氮化鈦、硅化物。適用工藝 預清洗、去膠清洗、氮化硅去除、金屬去除（Co,Ti）、Recycle 清洗。適用域 集成電路、化合物半導體、新興應用。
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