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詳細介紹
1. 產品概述
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺。可提供優良成熟的 MES 系統解決方案.優異的工藝技術支持。
2. 設備用途/原理
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統，半導體客戶端機臺裝機量大。可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺。高可靠性、穩定性 Higher reliability and stability。安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。可提供優良成熟的 MES 系統解決方案。優異的工藝技術支持。
3. 設備特點
晶圓尺寸 4、6、8 英寸，適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵。適用工藝 氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。適用域 科研、化合物半導體。
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