等離子化學氣相沉積系統

EPEE系列 等離子化學氣相沉積系統

1、單片和多片式架構，滿足量產和研發客戶需求

Advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and R&D

2、高效傳輸系統，智能軟件調度算法

Efficient transport system, intelligent software scheduling

3、高效遠程等離子體清洗系統，優異的顆?？刂?/p>

Efficient remote plasma cleaning system, superior particle control

4、支持氣態硅烷、液態 TEOS 和碳膜等工藝

Supporting SiH4 base ,TEOS base deposition and Carbon process

5、支持在線膜厚和清洗終點實時監測

Supporting on-line film thickness and dry-clean endpoint detection

技術參數

1、晶圓尺寸 4/6/8 英寸兼容

2、適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳

3、適用工藝 氧化硅圖形化襯底層、鈍化層、絕緣層、掩膜層

4、適用領域 科研、化合物半導體、新興應用、集成電路