<noframes id="91h9j"><form id="91h9j"><th id="91h9j"></th></form>

      <noframes id="91h9j"><address id="91h9j"><nobr id="91h9j"></nobr></address>
      <address id="91h9j"><listing id="91h9j"><meter id="91h9j"></meter></listing></address>
        <address id="91h9j"></address>
        <address id="91h9j"><address id="91h9j"><nobr id="91h9j"></nobr></address></address><form id="91h9j"></form>

            <address id="91h9j"><nobr id="91h9j"><progress id="91h9j"></progress></nobr></address>
            歡迎來到深圳市矢量科學儀器有限公司網站!
            咨詢熱線

            當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  2 PVD  >  customized電子束蒸發鍍膜機E-Beam

            電子束蒸發鍍膜機E-Beam

            簡要描述:電子束蒸發鍍膜機E-Beam 概述:系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成。

            • 產品型號:customized
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-06
            • 訪  問  量: 1193

            詳細介紹

            1. 產品概述

            電子束蒸發鍍膜機E-Beam

            系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成。

            2. 設備用途

            本系統配有一套電子槍及電源,可滿足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。

            3. 技術參數

            真空室尺寸:定制

            極限真空度:≤6.0E-5Pa                    

            沉積源:6個40cc坩堝                  

            溫度:最高300℃

            電控描述:全自動

            工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%

            特色參數:樣品尺寸及數量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架

            4. 企業簡介

            深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

            致力于提供半導體制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

            公司已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

             

            產品咨詢

            留言框

            • 產品:

            • 您的單位:

            • 您的姓名:

            • 聯系電話:

            • 常用郵箱:

            • 省份:

            • 詳細地址:

            • 補充說明:

            • 驗證碼:

              請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
            日本乱码一卡二卡三卡永久