詳細介紹
本裝置是在真空狀態中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
本設備采用真空技術,用于在產品外部涂覆非導體材料。在真空環境下,產品會進行自旋轉動,使涂層能夠均勻覆蓋整個表面,形成一定厚度的保護膜。這種真空涂層技術可以確保涂層的致密性和附著力,從而為產品提供耐磨、絕緣、防腐等功能。
具體來說,該設備由真空室、高速旋轉平臺和涂層噴淋系統等部件組成。產品放置在旋轉平臺上,在真空抽氣后,平臺以高速旋轉,同時對產品表面進行均勻的涂層噴灑。涂層材料在真空環境下能夠迅速附著并形成致密的膜層,厚度可以精確控制,以滿足不同產品的性能要求。這種真空涂層技術廣泛應用于電子、汽車、航空航天等領域,為產品提供保護性能。
與傳統的大氣壓涂裝相比,真空涂層技術具有明顯的優勢。首先,真空環境可以有效地排除空氣中的灰塵和雜質,確保涂層表面的潔凈度。其次,真空狀態下涂層材料的流動性和浸潤性大為提高,能夠更好地覆蓋產品表面的微小凹凸部位。此外,真空條件下涂層的固化速度更快,生產效率更高??傊?這種真空涂層技術為產品表面處理提供了一種高質量、高效率的解決方案。
設備構成 | Auto Inline 8 Chamber |
到達真空 | 3 x 10-6 Torr |
排氣構成 | D/P + Poly Cold + MBP + RP |
產品回轉 | 滾輪驅動 |
Sputter Target | AL, SUS, Ni, Sn, Ti, Cr |
Cycle Time | 1~3 min |
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