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            Beneq C2R--空間原子層沉積ALD
            
            
            簡要描述：Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。
            
            
              
    
            • 產品型號：
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            • 廠商性質：經銷商
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            • 更新時間：2024-09-05
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            • 訪  問  量： 283
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            詳細介紹
            
            
            
            	
            1.產品概述：
            Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。
            2.產品配置:
            Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。
            自動化服務包括：
            Brooks MX400 基于集群的模塊
            雙臂掃地機器人            
            樣品對準器                     
            可選預熱和冷卻
            3.產品優勢：
            超高沉積速率，高達每小時幾微米
            批量 PEALD 工藝，適用于多達 7 個 200 mm 晶圓
            適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
            膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學鍍膜應用
            可配備負載鎖或晶圓自動化
            
            
            
            
            
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