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            高真空磁控濺射薄膜沉積系統

            簡要描述:產品概述:
            高真空磁控濺射薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業的軟件控制系統。

            設備用途:
            可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

            • 產品型號:TRP450
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-09-05
            • 訪  問  量: 448

            詳細介紹

            1.產品概述:
            本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業的軟件控制系統。
            2.設備用途:
            可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
            3.用戶評價:
            TRP-450高真空鍍膜機其設備質量過關,功能齊全,性能穩定,自動化程度高,抽氣速平穩,電源穩定可靠,氣路流暢密閉,鍍膜質量平整光滑,均勻致密,結合力強,且系統操控智能,便捷,可滿足科研實驗與生產制造的需求,是一款優秀的磁控濺射鍍膜系統?!本┦┘夹g研究院有限公司 李老師
            4.真空室:

            真空室結構:圓筒形開門
            真空室尺寸:φ450x400mm
            限真空度:≤6.6E-6Pa
            沉積源:永磁靶3套,φ2英寸,可以向上濺射或向下濺射。
            樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,高800℃
            占地面積(長x寬x高):約1米×1.8米×2米
            電控描述:全自動
            工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%


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