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詳細介紹
1. 產品概述
Batch式高真空蒸發設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備?？赏ㄟ^操作面板實現抽真空、成膜等作業內容的集中自動化操作，適用于研究開發及少量生產。
2. 設備用途/原理
Power Device等化合物相關。LED、LD、高速device。各種實驗用。其他各種電子部件。
3. 設備特點
可搭載多樣蒸發源（EB、電阻式、EB+電阻式）。對應不同制程可選多種基板holder（lift-off、行星式、衛星式等）。φ2 in? 6 in基板、矩形基板、Si、化合物、glass、陶瓷燈各種基板對應。液晶觸控板集中現實操作。集成電腦擁有優異的操作性和性能（recipe功能、data-logging、maintenance assistant功能）。
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